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I类洞的制备

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人气:-发表时间:2015-10-23 11:53【

I类洞为发生在所有牙面发育点隙裂沟的龋损所备成的窝洞。包括磨牙和前磨牙的合面洞、上前牙腭面洞、下磨牙颊面合2/3的颊面洞和颊合面洞、上磨牙腭面合2/3的腭面洞和腭合面洞。

制备要点

外形:圆缓曲线;避开牙尖;尽量保留斜嵴、横嵴

洞深:1.5-2mm

洞缘角:直角;点线角圆钝、洞底平坦

侧壁略向洞口聚合,典型盒状洞形

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操作步骤

1.设计洞形

用铅笔沿磨牙的窝沟画出设计洞形

2.开扩洞口

用锋利的裂钻从中央窝处钻入牙体组织,达到釉牙本质界下0.2-0.5mm(洞深约2mm)。由于牙本质和牙釉质的硬度不同,故钻针进入牙本质内时,术者手指可感觉阻力减少,且磨下得牙本质粉末也明显增多。

3.扩展洞形

钻入釉牙本质界后,扩展至所设计的外形。扩展时注意只向侧方加压,不向深部加压,以免加深窝洞。用低速手机扩展时要一次达到深度,不可层层加深,以免产热过多刺激牙髓组织。术中应保持钻针长轴垂直于洞底,采用点磨法,即钻针钻磨时向合面方向提拉。

4.修整洞形

盒状洞型。可用小球钻在牙尖下面的侧壁线角处形成倒凹。

注意事项

-雕刻刀和手机的握持方式——执笔式。

-要有支点,无名指,支点要稳。

-牙本质必须用慢速手机备洞,训练支点、手感。

-注意“点磨”。

-转针转动中出入牙齿,转针停转后进出口腔。

-用低速手机扩展时要一次到达深度,不可层层加深,以免产热过多刺激牙髓组织。用高速手机扩展时要在一定的范围内层层加深,以使水流能喷至钻针尖端。

-爱惜离牙体。

常见问题

1、洞外形:洞形过大、过小,扩展不足

2、抗力形:洞缘不圆缓、薄壁弱尖、线角过锐

3、固位形:洞过浅、壁不直、底不平


转:口腔医学网

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