暂时性口内骨支抗装置（TISAD / TAD）的稳定性受很多因素的影响，例如口腔卫生，口腔疾病，吸烟，粘膜状况，微种植钉植入位置，加力方法，以及TISAD / TAD的类型等等。

近年来，正畸微种植钉（orthodontic miniscrew，OM）得到了极大的普及；在许多困难的病例中，OM都能提供可靠的支抗。虽然，OM对患者的依从性、牙弓条件要求均很小，但其稳定性并不一致，报道显示其成功率在59.2–100.0%之间不等。

1、在颧牙槽嵴区域植入正畸微支抗钉穿入上颌窦的影响

微支抗钉被广泛应用于可预测的牙齿移动，但支抗钉的植入往往受限于解剖结构。这一研究的目的是调查微支抗钉致上颌窦穿孔的发生率及穿孔深度与上颌窦组织之间的关系。

方法：收集32名接受颧牙槽嵴区域植入微支抗钉的患者的数据。通过临床回顾性分析，确定了支抗钉植入的成功率。获取支抗钉植入后即刻和移除之前即刻b的CBCT影像，并比较穿孔的发生率、穿孔深度、上颌窦外形。

结果：微支抗钉植入的总成功率为96.7%，而穿入上颌窦的成功率为78.3%。在穿入超过1毫米的人群中，粘膜增厚的发生率为88.2%，增厚的平均值为1.0毫米；然而，在穿入小于1毫米组的人群中，粘膜增厚的发生率为37.5%，平均增厚0.2毫米（P<0.05）。

结论：在颧牙槽嵴区域植入正畸微支抗钉穿入上颌窦的发生率可能很高。对于颧牙槽嵴区的微支抗钉植入，建议穿过双侧皮质骨的植入穿孔深度在1mm之内。

2、正畸微种植钉长度对其长期稳定性的影响

下面这项研究通过前瞻性观察TISAD / TAD的长度对其的长期稳定性的影响。

方法：在拔牙病例（第一或第二前磨牙）中引入最大的支抗强度，以用于内收下前牙。使用同一种TISAD / TAD：OrthoEasy Pin（Forestadent，Phorzheim，德国），长度为6或8mm。每名患者在随机选择的下颌象限（左侧或右侧）中接受6mm和8mm长的TISAD / TAD，所有的微种植钉都由同一个的正畸医生照相同的方法植入。

结果：1.如果出现轻微的移动度，但TISAD / TAD仍可用作直接支抗，则仍然认为是成功的。换句话说，只有TISAD / TAD具有较大的动度，不能再作为支抗，或者由于NiTi弹簧的作用被拉松脱，则表示TISAD / TAD“丧失”。

2.总共54个TISAD / TAD中的40个能够达到治疗目标。详细结果见Table 2。A组中，22枚（81.5％）微种植钉呈现长期稳定性，而B组只有18个（66％）TISAD / TAD在整个治疗过程中保持稳定。这种差异有统计学意义（P = 0.0311）。所有植入的微种植钉的总成功率是74％。在一例（患者4）中，两种长度的TISAD / TAD均失败。

结论：在20-29岁女性的下颌骨中植入8毫米正畸微种植钉，植入2周后加力100到150克，比6毫米种植钉更稳定。

3、微种植体植入的平均根尖区域研究及拥挤度的考虑

本研究目的为明确微种植钉植入的附着龈水平根尖间区域，以及探究牙列拥挤与可用空间的相关性。

方法：

A.全景片

如图1：两邻牙根尖间垂线直至CEJ作为虚拟尺，直到找到两邻牙间距3mm处，记录该点到CEJ的距离，选取较短的根长作为标准，该距离使用根长的百分比表示，100%表示该牙间不存在至少3mm的间隙。

根据该测量结果制作根尖间微种植钉植入图，当值小于等于50%时认为是理想的植入区域；值在51%-75%区间内认为是边界区；当值大于等于76%则认为不宜植入。

B.电子模型

为评价牙弓拥挤度，使用专用扫描仪及软件将模型计算机化，测量上下颌骨前牙段和后牙段的牙弓拥挤度（mm）。

结果：上颌中，除了双侧尖牙及侧切牙间及中切牙间数值呈正态分布，其余根尖区值呈非正态分布；在下颌，除了切牙，其他均呈正态分布，所有拥挤数据均呈非正态分布。

结论：在开始矫正前，平均根尖距离图能作为微种植钉的植入指南，此外临床医生应考虑到拥挤量，若拥挤量大，则根尖区域与报道的平均值存在较大差异，因此仍推荐对每个患者进行射线检查。

来源：浙一口腔正畸林军